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基礎信息Product information
產品名稱:

1400℃原位高溫光學加熱平臺

產品型號:Huace 1400-XY

廠商性質:生產廠家

所在地:北京市

更新日期:2026-05-22

產品簡介:

華測儀器Huace 1400-XY 1400℃原位高溫光學加熱平臺是為高溫環境下材料光學觀測與性能測試設計的試驗設備,可實現室溫至 1400℃穩定可控加熱,具備光學觀測兼容性。

產品特性Product characteristics
品牌華測

Huace 1400-XY 1400℃原位高溫光學加熱平臺

價格僅供參考,如需獲取更詳盡的產品技術規格書、定制方案或應用案例,歡迎致電我司技術工程師


Huace 1400-XY 1400℃原位高溫光學加熱平臺由華測儀器生產,設備采用耐高溫陶瓷加熱體與高溫阻絲加熱結構,搭配 PID 控溫算法與高準度 S 型熱電偶,確保溫度準確調控與長期穩定。配備 XY 雙向可調載樣臺,位移 ±6mm,精度 0.01mm,可在高溫過程中靈活調整樣品觀測位置,適用于材料科學、冶金、陶瓷、地質及半導體等領域,用于高溫下樣品相變、熱膨脹、燒結、熔化等過程研究。


產品參數

設備型號:Huace 1400-XY

加熱方式:電阻加熱(高溫阻絲)

溫度范圍:室溫~1400℃

溫度穩定性:±0.1℃

溫度分辨率:0.1℃

升溫速率:1~150℃/min 可調

載樣臺材質:陶瓷

載樣臺尺寸:20mm×20mm×4mm(長×寬×高)

可達樣品高度:4mm

樣品臺位移:X/Y 軸 ±6mm,精度 0.01mm

光路:反射光路

上視窗尺寸:Φ3mm

載樣臺到視窗上表面距離:18mm

腔室環境:真空 / 惰性氣氛(Ar、N?)/ 大氣

選配:真空系統、定制水循環系統、定制軟件控溫系統


1400℃原位高溫光學加熱平臺


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